发布时间：2019-09-03 11:34:12

集成电路布图设计登记
 
为保护集成电路布图设计专有权，中国国务院于2001年4月2日通过了《集成电路布图设计保护条例》，并于2001年10月1日起施行。
本条例将集成电路布图设计列为保护对象，具体是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
布图设计专有权属于布图设计创作者。由法人或者其他组织主持,依据法人或者其他组织的意志而创作,并由法人或者其他组织承担责任的布图设计,该法人或者其他组织是创作者。由自然人创作的布图设计,该自然人是创作者。两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计,其专有权的归属由合作者约定；未作约定或者约定不明的,其专有权由合作者共同享有。受委托创作的布图设计,其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；未作约定或者约定不明的,其专有权由受托人享有。
布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。但是,无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起15年后,不再受本条例保护。
布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内,未向国务院知识产权行政部门提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记。
为了在中国取得集成电路布图设计登记，外国申请人必须委托一家中国代理机构向中国国务院知识产权行政部门提出登记申请。